포토리소그래피 분해능 및 초점 심도(DOF) 계산기

이 계산기는 미세 가공 및 반도체 리소그래피에 사용되는 광학 노광 시스템의 분해능(인쇄 가능한 최소 패턴 크기) 및 초점 심도(DOF)를 계산합니다.

공식

분해능 (HP) (R): R = k1 × λ NA
초점 심도 (DOF): DOF = k2 × λ NA2

λ: 노광 파장 (λ), NA: 개구수 (Numerical Aperture), k1, k2: 경험적 공정 변수 (Empirical Process Factors)

Photolithography Schematic

입력

nm

출력

기본 미리보기 (ArF 액침 리소그래피)

분해능 (HP) (R):

40.03 nm

초점 심도 (DOF):

52.95 nm