光刻分辨率与焦深 (DOF) 计算器

本工具用于计算半导体制造中曝光光学系统的分辨率（可印制的最小特征尺寸）和焦深 (Depth of Focus, DOF)。

计算公式：

分辨率 (R): R = k₁ × λ NA

焦深 (DOF): DOF = k₂ × λ NA²

λ: 光源波长 , NA: 镜头数值孔径 , k₁, k₂: 工艺经验系数 (通常 k₁ ≥ 0.25)

默认预览 (ArF 浸没式光刻)

光刻分辨率 (R):

40.03 nm

焦深 (Depth of Focus, DOF):

52.95 nm