光刻解析度與焦深 (DOF) 計算器

本工具用於計算半導體製造中曝光光學系統的解析度（可印製的最小特徵尺寸）和焦深 (Depth of Focus, DOF)。

計算公式：

解析度 (R): R = k₁ × λ NA

焦深 (DOF): DOF = k₂ × λ NA²

λ: 光源波長 , NA: 鏡頭數值孔徑 , k₁, k₂: 工藝經驗係數 (通常 k₁ ≥ 0.25)

默認預覽 (ArF 浸沒式光刻)

光刻解析度 (R):

40.03 nm

焦深 (Depth of Focus, DOF):

52.95 nm