Fotolithografie Auflösung & Tiefenschärfe (DOF) Rechner
Dieser Rechner berechnet die Auflösung (minimale druckbare Strukturgröße) und die Tiefenschärfe (DOF) für ein optisches Belichtungssystem, das in der Mikrofabrikation und Halbleiterlithografie eingesetzt wird.
Formeln
Auflösung (HP) (R):
R = k1 ×
λ
NA
Tiefenschärfe (DOF):
DOF = k2 ×
λ
NA2
λ: Belichtungs-Wellenlänge (λ), NA: Numerische Apertur (NA), k1, k2: Empirische Prozessfaktoren
Eingabe
Ausgabe
Standard-Vorschau (ArF-Immersion)
Auflösung (HP) (R):
40.03 nm
Tiefenschärfe (DOF):
52.95 nm